HOME > セムコ通信 > CMPスラリー液の撹拌

セムコ通信

CMPスラリー液の撹拌 半導体・液晶

ご相談内容

CMPスラリー液の撹拌において、エアー巻き込みによる品質の変化を解消したい

半導体工場では、CMPスラリー液の分離防止のため常に撹拌機を使用している。ところが、薬品槽の液面レベルが低くなってくると今度は撹拌機の回転数が撹拌する液体に対し強すぎてしまい、エアーの巻き込みが発生し、それによって品質の変化により、製品の不良などの問題が発生している。

品質の変化や製品の不良が起こることで、かなりの損失もあり、防止することが出来れば不良率の大幅な改善をすることが出来る。

 

 

ご提案

CMPスラリー液の液面レベルに合わせ撹拌機の回転数制御を実現させた、TCMD型撹拌機

液量を測る方法として、レベル計またはロードセルがあります。
その液面計、ロードセル等からの外部信号(4~20mAまたは1~5V)により回転数の制御が行え、薬品槽における品質の変化やエアーの巻き込みを防止します。

 

レベル計を使用した用途例
レベル計を使用した用途例

 

 

関連製品

デジタルケミカルミキサーTCMD  

デジタルケミカルミキサーTCMD

DCブラシレスモーターを採用し、外部信号による回転数制御が可能です。

  • カタログ登録会員
  • WEBからのお問い合わせ
  • 03-3946-3201
  • 03-3946-3210
  • 製品に関するご相談やカタログ請求、
    デモ機のご依頼などお気軽にご連絡ください。
  • よくある質問
  • カタログダウンロード
  • 貸出機のご依頼
  • ご利用製品のサポート窓口