CMPスラリー液の撹拌 半導体・液晶
ご相談内容
CMPスラリー液の撹拌において、エアー巻き込みによる品質の変化を解消したい
半導体工場では、CMPスラリー液の分離防止のため常に撹拌機を使用している。ところが、薬品槽の液面レベルが低くなってくると今度は撹拌機の回転数が撹拌する液体に対し強すぎてしまい、エアーの巻き込みが発生し、それによって品質の変化により、製品の不良などの問題が発生している。
品質の変化や製品の不良が起こることで、かなりの損失もあり、防止することが出来れば不良率の大幅な改善をすることが出来る。
ご提案
CMPスラリー液の液面レベルに合わせ撹拌機の回転数制御を実現させた、TCMD型撹拌機
液量を測る方法として、レベル計またはロードセルがあります。
その液面計、ロードセル等からの外部信号(4~20mAまたは1~5V)により回転数の制御が行え、薬品槽における品質の変化やエアーの巻き込みを防止します。
関連製品
デジタルケミカルミキサーTCMD
|
製品に関するご質問
水質測定器 | ケミカルポンプ | 撹拌機 | 中和装置 |
タンク・レベル計 | 水耕栽培器 | 濾過(ろ過)器 | その他製品 |
ご購入に関するよくあるご質問
取扱製品・範囲 | ご購入・窓口 | 業務範囲 | アフターサポート |